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        PECVD等離子體系統 當前位置:網站首頁 > 產品展示

    PECVD系統(集成氣化裝置)

    發布時間:2022-04-15  瀏覽次數:251

    設備簡介:

    該PECVD系統配置高精度全封閉式液體氣化裝置,為表面薄膜沉積實驗提供包含有毒液體在內的氣化條件。系統由高穩定性射頻電源(200W,13.56MHz)、氣體流量控制系統及真空系統組成,采用NBD-101EP集中總線控制技術的諾巴迪操作軟件。利用等離子體特性來控制或影響氣相反應和材料表面的化學反應過程,并在適當的溫度下沉積薄膜。PECVD淀積的薄膜具有優良的電學性能、良好的襯底附著性以及極佳的臺階覆蓋性,正由于這些優點使其在超大規模集成電路、光電器件、MEMS等領域具有廣泛的應用。


                             

     

                                



    配置詳情


    主要特點:

    1. 集成液體氣化系統,可穩定提供包括有毒液體在內的反應氣體條件; 

    2. 清洗鍍膜一氣呵成,杜絕二次污染;

    3. 上開啟式結構,方便觀察試樣;

    4. 產品采用全自動控制方式,觸摸屏,數字化顯示;

    5. 設備一體化程度高; 

    6. 穩定的射頻電源,均勻的溫度分布,提高成膜質量;

    7.    出色的電磁波屏蔽方案,高效、安全!

    設備型號

    NBD-PE1200-80TID2FY

    供電電源

    AC220V 50/60HZ

    控溫精度

    ±1℃

    觸摸屏尺寸

    7英寸

    射頻頻率

    13.56MHz

    射頻功率輸出范圍

    0-200W

    沉積加熱額定功率

    4.0KW

    蒸發器額定功率

    1.3KW

    伴熱帶額定功率

    75W

    傳感器類型

    K型熱電偶

    沉積最高溫度

    1200℃

    沉積額定溫度

    1150℃

    蒸發器額定溫度

    400℃

    伴熱帶額定溫度

    150℃

    推薦升溫速率

    ≤10/min

    沉積管徑

    Φ80mm*1200mm
    蒸發源管徑

    Φ50mm*80mm

    蒸發源有效容積

    50ml

    PECVD 外形尺寸

    長1500×高1280×深760mm

    蒸發器外形尺寸

    長410×高350×深210mm

    氣氛條件

    混合氣、真空等

    機械泵抽氣速率

    16 立方米每小時

    爐腔極限真空度

    3~5Pa

    法蘭結構

    航空鋁快開模式;

    操作系統

    NBD-101EP集中總線控制集成系統,7"全觸摸屏操控,智能模糊PID 控制;智能式人機對話模式;

    真空測試

    數字真空計獲取裝置;

    設備細節

     

     

     

    部分界面

     

     

    凈重

    約300KG

    設備使用注意事項

    1.射頻匹配器一般處于自動匹配狀態,一般功率需達到50W以上才能匹配;

    2.若采用手動匹配,將功率設到60W左右,手動調諧匹配合適時,再增加功率


    服務支持

    一年有限保修,提供終身支持;


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